Çinli girişim Langdao Silex, 15W üzeri çıkış gücüne sahip bir EUV ışık kaynağı prototipi sergiledi. 2024’te Tsinghua University’nin Gas Discharge Plasma Laboratory geçmişine sahip ekip tarafından kurulan şirket, sistemin bileşenlerinin %90’ının yurt içinden sağlandığını ve prototipin tatmin edici çalışma süresine ulaştığını belirtiyor. Buna karşın açıklanan çalışma, doğrudan tam ölçekli bir EUV litografi tarayıcısına işaret etmiyor.
FlintNano LPP-OXXO adlı düşük güçlü sistem, ASML’nin modern kaynaklarında da kullanılan laser-produced plasma (LPP) yaklaşımını temel alıyor. Bu yöntemde küçük ve ısıtılmış metal damlacıkları yüksek enerjili lazer darbeleriyle vurularak çok sıcak plazma oluşturuluyor ve EUV ışınımı üretiliyor. Langdao’nun prototipinde 1,000W sürücü lazer, 1 kHz ile 20 kHz çalışma frekansı ve %2’nin üzerinde dönüşüm verimliliği yer alıyor. Şirkete göre EUV çıkışı 15W’ı aşıyor, parlaklık ise 100 W/(mm²·sr) seviyesine ulaşıyor. Ayrıca étendue değeri 1 × 10⁻³ mm²·sr, plazma çapı da 60 μm olarak veriliyor.
Şirketin paylaştığı teknik bilgilere göre kaynak, 3% RMS plazma kararlılığı ve %5 EUV güç kararlılığıyla 100 saatin üzerinde kesintisiz çalışabiliyor. Bu değerler, yarı iletken pozlama deneyleri açısından kayda değer olsa da yüksek hacimli çip üretimi için yeterli görünmüyor. Üstelik 15W ölçümünün plazma noktasında mı yoksa endüstride yaygın referans olan intermediate focus aşamasında mı alındığı net değil. Bu ayrım, pratikte kullanılabilir gücü doğrudan etkiliyor.
Langdao ayrıca FlintMicro-LPP adlı daha yüksek güçlü bir EUV kaynağı üzerinde de çalışıyor ve bu sistem için ilkesel doğrulamanın tamamlandığı aktarılıyor. Ancak çıkış gücü, verimlilik veya çalışma ömrü gibi temel teknik ayrıntılar henüz açıklanmış değil.
Buradaki ana nokta, tek başına bir ışık kaynağının EUV tarayıcı anlamına gelmemesi. Tam bir sistem için toplama ve aydınlatma optikleri, yüksek hassasiyetli çok katmanlı aynalar, wafer ve reticle sahneleri, overlay doğruluğu ve kapsamlı sistem entegrasyonu gerekiyor. Dolayısıyla Langdao’nun ilerlemesi önemli olsa da, bu açıklama Çin’in kısa vadede kendi EUV litografi makinelerini üretebileceği anlamına gelmiyor.
